一种抗硫化片式厚膜电阻的制作方法

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201510806512.1 （22）申请日 2015.11.21 （71）申请人 贝迪斯电子有限公司

地址 233000 安徽省蚌埠市高新技术产业开发区兴中路818号

（10）申请公布号 CN1053361A

（43）申请公布日 2016.02.17

（72）发明人 李福喜;黄明怀;徐建建;陈立俊 （74）专利代理机构 安徽省蚌埠博源专利商标事务所

代理人 倪波

（51）Int.CI

H01C17/00; H01C17/28;

权利要求说明书 说明书 幅图

（）发明名称

一种抗硫化片式厚膜电阻的制作方法

（57）摘要

本发明公开一种抗硫化片式厚膜电阻的制

作方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）在陶瓷基片的正面印刷电阻层并烧结，（2）正面掩膜后溅射纯镍正电极，（3）水洗去膜，（4）背面掩膜后溅射纯镍背电极，（5）水洗去膜，（6）镭射，（7）印刷包封层，（8）裂条，（9）溅射纯镍侧电极，（10）碎片，（11）电镀锡层；本

发明采用纯镍通过真空溅射制作正、背电极，使得片式厚膜电阻的电极中不含有银成分，彻底解决硫化对片式厚膜电阻的影响，避免了阻值变大或开路的现象，保证了片式厚膜电阻的稳定性。

法律状态

法律状态公告日

2016-02-17 2016-02-17 2016-03-16 2016-03-16 2018-04-24

法律状态信息

公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效

发明专利申请公布后的视为撤回

法律状态

公开 公开

实质审查的生效 实质审查的生效

发明专利申请公布后的视为撤回

权利要求说明书

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说明书

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