(12)发明专利申请
(21)申请号 CN200480001220.0 (22)申请日 2004.09.09 (71)申请人 昭和电工株式会社
地址 日本东京都
(10)申请公布号 CN1701056A (43)申请公布日 2005.11.23
(72)发明人 大野博基;新井龙晴
(74)专利代理机构 北京市中咨律师事务所
代理人 段承恩
(51)Int.CI
C07C17/10; C07C19/08;
权利要求说明书 说明书 幅图
()发明名称
氢氟烃的制造方法,其制品及其用途
(57)摘要
使卤代甲烷混合物和氟化氢,在气相中在
氟化催化剂的存在下在单一的反应带中反应,将生成的气体导入蒸馏塔中进行分离精制后,获得2种或2种以上的氢氟烃。根据本发明,可以有利于工业地制造在半导体器件的制造工艺中可以作为蚀刻气体或清洗气体而使用的,高纯度的氢氟烃类、特别是氟代甲烷、二氟甲烷。
法律状态
法律状态公告日
2005-11-23 2006-01-18 2007-08-08
公开
实质审查的生效 授权
法律状态信息
公开
法律状态
实质审查的生效 授权
权利要求说明书
氢氟烃的制造方法,其制品及其用途的权利要求说明书内容是....请下载后查看
说明书
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