设计光掩膜版的方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：设计光掩膜版的方法专利类型：发明专利发明人：张婉娟

申请号：CN201010124698.X申请日：20100311公开号：CN102193306A公开日：20110921

摘要：一种设计光掩膜版的方法，所述方法包括：a)将初始状态的掩膜版作为目标层，并设定第一目标图案；b)在所述目标层上模拟图案的轮廓，对于小于设计规则的所述图案输出未产生模拟轮廓的错误位置；c)扩大所述错误位置的图案尺寸；d)对所述目标层再次模拟所述图案的轮廓；e)判断再次模拟的轮廓是否符合所述第一目标图案，如果所述再次模拟的轮廓不符合所述第一目标图案，则返回步骤c)，直到符合所述第一目标图案为止；f)将所述第一目标图案作为光学临近修正的初始图案。本发明能够有效解决次设计规则版图上OPC模型没有足够涵盖范围的问题。

申请人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

地址：201203 上海市浦东新区张江路18号

国籍：CN

代理机构：北京市磐华律师事务所

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