专利名称：光刻装置专利类型：发明专利
发明人：S·M·J·科尼利森,M·A·W·库杰帕斯,C·C·奥坦斯,P·史
密茨,J·A·M·范德瓦尔
申请号：CN200610132121.7申请日：20061010公开号：CN1949081A公开日：20070418
摘要：本发明公开了一种光刻装置，其中圆形传感器通过三个板簧安装在基底台上，所述板簧围绕传感器的热轴线均匀隔开。该板簧布置成两个彼此可拆卸连接的安装部。板簧是弹性的，并允许传感器因热膨胀和收缩而相对基底台移动，但是可以确保传感器的热心不相对基底台移动。
申请人：ASML荷兰有限公司
地址：荷兰费尔德霍芬
国籍：NL
代理机构：中国专利代理()有限公司
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